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雙頻激光干涉儀

LH1000雙頻激光干涉儀

產(chǎn)品描述:

光刻機專(zhuān)用雙頻激光干涉儀
可構建XY位移臺等多軸測量系統
采用直接輸出線(xiàn)偏振光、大功率、大頻差雙頻激光器
無(wú)圓偏振光轉線(xiàn)偏振光非線(xiàn)性誤差
大功率可同時(shí)測量更多數量的軸向位移
大頻差,測量速度更快

服務(wù)熱線(xiàn):4008168900
立即咨詢(xún)

Information in English:

LH1000 Dual-frequency Interferometer.pdf

Nonlinear error analysis and experimental measurement of Birefringence-Zeeman dual-frequency laser interferometer.pdf


專(zhuān)為光刻機配套開(kāi)發(fā)的高精度測量系統;

通過(guò)國家重大專(zhuān)項“極大規模集成電路制造技術(shù)及成套工藝”項目驗收。

采用直接輸出線(xiàn)偏振光的雙頻激光器;

非線(xiàn)性高精密測量系統,測量更精準;

可提供1~20MHz頻差內任意頻差產(chǎn)品,滿(mǎn)足各種測量速度需要。

光源和測量信號接收單元分體式設計,方便搭建XY位移臺等多軸測量系統;

精巧的測量信號光纖接收頭,即使空間狹小也能方便安裝;

標準光刻機干涉儀安裝尺寸和數據接口,可直接替換現有產(chǎn)品。

(欲了解更多單頻與雙頻干涉儀的性能特點(diǎn)和差異,請閱覽本網(wǎng)站解決方案欄目中的:雙頻激光干涉儀



型號

頻差(MHz)

最小出光功率(μW)

光斑尺寸(mm)

穩頻精度(ppm)

LH1000A

1.5±0.5

>500

6

±0.02

LH1000B

2.5±0.5

> 500

6

±0.02

LH1000C

3.5±0.5

> 500

3, 6, 9

±0.02

LH1000D

4.5±0.5

>500

6, 9

±0.02

LH1000DL

5.5±0.5

> 500

6, 9

±0.02

LH1000EL

6.5±0.5

>500

6

±0.02

LH1000FL

7.5±0.5

>500

6, 9

±0.02

LH1000GL

8.5±0.5

> 500

9

±0.02

LH1000H

9.5±0.5

> 500

3, 6, 9

±0.02

LH1000I

10.0-20.0(按需定制)

> 500

3, 6, 9

±0.02

注:可根據需求定制更小頻差范圍。

微信截圖_20210616121113.png

 


懇請注意:因市場(chǎng)發(fā)展和產(chǎn)品開(kāi)發(fā)的需要,本產(chǎn)品資料中有關(guān)內容可能會(huì )根據實(shí)際情況隨時(shí)更新或修改,恕不另行通知,不便之處敬請諒解。

LH1000雙頻激光干涉儀應用于尼康光刻機后,其工作臺精度由原來(lái)的23nm提高到6nm!

圖片1.jpg


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